![Důležité termíny](https://cdn.muni.cz/media/3633704/image_2.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
Hybrid PVD-PECVD sputtering deposition process - from properties of deposited films to process characteristics
Název česky | Hybridní PVD-PECVD proces - od vlastností deponovaných vrstev k vlastnostem procesu |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2009 |
Druh | Článek ve sborníku |
Konference | Book of Abstracts, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8 |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Klíčová slova | hybrid PVD-PECVD |
Popis | Hybridní PVD-PECVD proces - od vlastností deponovaných vrstev k vlastnostem procesu, sborník |
Související projekty: |