Zde se nacházíte:
Informace o publikaci
Modelling of the reactive sputtering process with non-uniform discharge current density and different temperature conditions
Název česky | Modelování magnetronového naprašování s nerovnoměrnou proudovou hustotou a různými teplotními podmínkami |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2009 |
Druh | Článek v odborném periodiku |
Časopis / Zdroj | Plasma Sources Science and Technology |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Klíčová slova | magnetron sputtering; reactive; Berg |
Popis | Modelování magnetronového naprašování s nerovnoměrnou proudovou hustotou a různými teplotními podmínkami, článek |
Související projekty: |