Informace o publikaci

Modelling of the reactive sputtering process with non-uniform discharge current density and different temperature conditions

Logo poskytovatele
Název česky Modelování magnetronového naprašování s nerovnoměrnou proudovou hustotou a různými teplotními podmínkami
Autoři

VAŠINA Petr SCHMIDTOVÁ Tereza ELIÁŠ Marek

Rok publikování 2009
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Plasma Sources Science and Technology
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova magnetron sputtering; reactive; Berg
Popis Modelování magnetronového naprašování s nerovnoměrnou proudovou hustotou a různými teplotními podmínkami, článek
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info