Effect of plasma treatment on the surface morphology and wettability of (111) and (100) silicon wafers

• Název česky: Efekt plazmové úpravy na morfologii a smáčivost povrchů křemíku (111) a (100)
• Autoři: SKÁCELOVÁ Dana; HANIČINEC Martin; SŤAHEL Pavel; ČERNÁK Mirko
• Rok publikování: 2011
• Druh: Konferenční abstrakty
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Popis: This paper is focused on the plasma treatment of silicon surface. The effect of plasma treatment in dependence of the different crystallographic orientation of silicon surface,(100) plane and (111) plane is compare

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek