doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D.
docent – Depozice tenkých vrstev a nanostruktur
kancelář: pav. 06/01009
Kotlářská 267/2
611 37 Brno
telefon: | 549 49 8961 |
---|---|
e‑mail: |
sociální a akademické sítě: |
---|
Počet publikací: 149
2024
-
Enhancement of ionized metal flux fraction without compromising deposition rate in industrial magnetron sputtering
Surface and Coatings Technology, rok: 2024, ročník: 489, vydání: August 2024, DOI
-
Erratum: “Optical spectroscopy for sputtering process characterization” [J. Appl. Phys. 127, 211101 (2020)]
Journal of Applied Physics, rok: 2024, ročník: 136, vydání: 6, DOI
-
On direct-current magnetron sputtering at industrial conditions with high ionization fraction of sputtered species
Surface and Coatings Technology, rok: 2024, ročník: 487, vydání: July 2024, DOI
-
Spatially resolved optical emission analysis of spokes in HiPIMS utilising Al, Cr, Cu, Ti, and W targets
Plasma Sources Science and Technology, rok: 2024, ročník: 33, vydání: 6, DOI
2023
-
Describing the multipulse HiPIMS deposition
Rok: 2023, druh: Vyžádané přednášky
-
Dynamics of sputtered particles in multipulse HiPIMS discharge
Plasma Sources Science and Technology, rok: 2023, ročník: 32, vydání: 4, DOI
-
Enhancing the ionized metal flux fraction in industrial conditions
Rok: 2023, druh: Konferenční abstrakty
-
Investigation of ionized metal flux fraction at industrial conditions
Rok: 2023, druh: Konferenční abstrakty
-
NOVEL INDUSTRIAL SPUTTERING TECHNOLOGY WITH VERY HIGH IONIZED FLUX FRACTION OF DEPOSITED MATERIAL
Rok: 2023, druh: Konferenční abstrakty
-
Novel Sputter Cathode Design to Obtain Very High Ionized Flux Fraction of Deposited Material in Industrial Conditions
Rok: 2023, druh: Konferenční abstrakty