![Studijní programy](https://cdn.muni.cz/media/3757910/studijni-programy-student-jde-chodbou-masarykova-univerzita.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133754493890000000&heightratio=0.5&width=278)
prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.
ředitel ústavu – Ústav fyziky a technologií plazmatu
kancelář: pav. 06/01025
Kotlářská 267/2
611 37 Brno
telefon: | 549 49 6479 |
---|
sociální a akademické sítě: |
---|
Počet publikací: 391
2024
-
Spatially resolved optical emission analysis of spokes in HiPIMS utilising Al, Cr, Cu, Ti, and W targets
Plasma Sources Science and Technology, rok: 2024, ročník: 33, vydání: 6, DOI
-
Synthesis and characterization of ceramic high entropy carbide thin films from the Cr-Hf-Mo-Ta-W refractory metal system
Surface and Coatings Technology, rok: 2024, ročník: 485, vydání: June 2024, DOI
-
Technologie pro měření rychlosti růstu vrstvy a ionizace rozprášeného kovu při depozici s velmi vysokým výkonem
Rok: 2024
2023
-
Describing the multipulse HiPIMS deposition
Rok: 2023, druh: Vyžádané přednášky
-
Dynamic Impact Resistance and Scratch Adhesion of AlCrN Coatings Sputtered Using Cathodic Arc Glow Discharge
Coatings, rok: 2023, ročník: 13, vydání: 3, DOI
-
Dynamics of sputtered particles in multipulse HiPIMS discharge
Plasma Sources Science and Technology, rok: 2023, ročník: 32, vydání: 4, DOI
-
Enhancing the ionized metal flux fraction in industrial conditions
Rok: 2023, druh: Konferenční abstrakty
-
Industrially deposited hard and damage resistant W-B-C coatings
Surface and Coatings Technology, rok: 2023, ročník: 454, vydání: February, DOI
-
Investigation of ionized metal flux fraction at industrial conditions
Rok: 2023, druh: Konferenční abstrakty
-
Multilayer thin films of aluminum oxide and tantalum oxide deposited by pulsed direct current magnetron sputtering for dielectric applications
Vacuum, rok: 2023, ročník: 210, vydání: April, DOI