HF plasma pencil- new source for plasma surface processing

• Autoři: JANČA Jan; ZAJÍČKOVÁ Lenka; KLÍMA Miloš; SLAVÍČEK Pavel
• Rok publikování: 1999
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Surface and coating technology
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: plasma pencil; atmospheric discharge; diagnostic
• Popis: HF plasma pencil=new source for plasma surface treatment.

Související projekty

• Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
• Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy
• Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek