Informace o projektu
Studium plazmochemických procesů pomocí mikrovlnné a optické spektroskopie
- Kód projektu
- GP202/01/P106
- Období řešení
- 1/2001 - 1/2003
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Grantová agentura ČR
- Postdoktorské projekty
- Fakulta / Pracoviště MU
- Přírodovědecká fakulta
Vybrané plazmochemické reakce budou studovány v různých typech výbojů (nízkotlaký vysokofrekvenční výboj, nízkotlaký stejnosměrný výboj, nízkotlaký mikrovlnný výboj, vysokotlaký mikrovlnný hořák, doutnavý výboj za atmosférického tlaku, atd.) za pomocí el ektronové paramagnetické rezonance (EPR) a optické emisní spektroskopie (OES). Projekt se soustředí hlavně na následující oblasti: (i) Vliv příměsí na heterogenní (povrchové) reakce, zejména na povrchovou rekombinaci atomů. Koncentrace daných atomů v doh asínání bude určena v závislosti na množství příměsi, pozici v dohasínání, teplotě stěn, atd. Cílem je porozumět lépe tomuto procesu, popsat ho jak experimentálně tak teoreticky a na závěr navrhnout možné aplikace, např. zvýšení rychlosti nitridace. (ii) Určení rychlostních konstant hlavních reakcí mezi organosilikonovými sloučeninami (TEOS, HMDSO, HMDSZ, OMTS) a atomárním kyslíkem či dusíkem metodou EPR. Tyto konstanty pak umožní optimalizovat současné depoziční techniky, např. výběrem nejvhodnějšího
Publikace
Počet publikací: 35
2005
-
Hydrogen line broadening in afterglow observed by means of EPR
15th Symposium of Applications of Plasma Processes - Book of Contributed Papers, rok: 2005
2004
-
Electron density measurements in afterglow of high power pulsed microwave discharge
Plasma Sources Sci. Technol., rok: 2004, ročník: 13, vydání: 4
-
Low Temperature Metallurgy of Tungsten in Plasma Reactors
Journal of advanced oxidation technologies, rok: 2004, ročník: 7, vydání: 1
-
Simultaneous determination of N and O atom density in N2 - O2 plasma afterglow by NO titration
Proceeding of Seventeenth European Conference on Atomic & Molecular Physics of Ionized Gases, rok: 2004
-
Simultaneous measurement of N and O densities in plasma afterglow by means of NO titration
Plasma Sources Sci. Technol., rok: 2004, ročník: 13, vydání: 4
2003
-
Deposition of Hard carbon films and Its Diagnostics
Proceedings of the XIVth SAPP, rok: 2003
-
Diamond Growth on silicon and WC-Co by microwave plasma chemical vapor deposition
Proceedings of contributed papers WDS'03, rok: 2003
-
Electron density measurements in pulsed microwave discharge in nitrogen gas
Proceedings of contributed papers WDS'03, rok: 2003
-
Film deposition in Parallel Plate RF Discharges Containing Hydrocarbons
Proceedings of ISPC 14, rok: 2003
-
Hard carbon films: Deposition and diagnostics
Acta Physica Slovaca, rok: 2003, ročník: vol. 53, vydání: No. 5