Informace o projektu
Studium plazmochemických procesů pomocí mikrovlnné a optické spektroskopie
- Kód projektu
- GP202/01/P106
- Období řešení
- 1/2001 - 1/2003
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Grantová agentura ČR
- Postdoktorské projekty
- Fakulta / Pracoviště MU
- Přírodovědecká fakulta
Vybrané plazmochemické reakce budou studovány v různých typech výbojů (nízkotlaký vysokofrekvenční výboj, nízkotlaký stejnosměrný výboj, nízkotlaký mikrovlnný výboj, vysokotlaký mikrovlnný hořák, doutnavý výboj za atmosférického tlaku, atd.) za pomocí el ektronové paramagnetické rezonance (EPR) a optické emisní spektroskopie (OES). Projekt se soustředí hlavně na následující oblasti: (i) Vliv příměsí na heterogenní (povrchové) reakce, zejména na povrchovou rekombinaci atomů. Koncentrace daných atomů v doh asínání bude určena v závislosti na množství příměsi, pozici v dohasínání, teplotě stěn, atd. Cílem je porozumět lépe tomuto procesu, popsat ho jak experimentálně tak teoreticky a na závěr navrhnout možné aplikace, např. zvýšení rychlosti nitridace. (ii) Určení rychlostních konstant hlavních reakcí mezi organosilikonovými sloučeninami (TEOS, HMDSO, HMDSZ, OMTS) a atomárním kyslíkem či dusíkem metodou EPR. Tyto konstanty pak umožní optimalizovat současné depoziční techniky, např. výběrem nejvhodnějšího
Publikace
Počet publikací: 35
2003
-
Improved calibration procedure of an RF plasma impedance probe
Proceedings of ISPC 14, rok: 2003
-
Increase od Dissociation Degree in Afterglow Due to Admixtures
Proceedings of the XIVth SAPP, rok: 2003
-
Increase of dissociation degree in afterglow due to admixtures
Acta Physica Slovaca, rok: 2003, ročník: vol. 53, vydání: No. 5
-
Interferometer Diagnostics of Nitrogen Microwave Pulse Discharge
Proceedings of the XIVth SAPP, rok: 2003
-
Optical Diagnostics of ICP Dischare During Synthesis of Tungsten Carbide
Proceedings of the XIV Symposium on Application of Plasma Processes, rok: 2003
-
Study of high power pulsed microwave discharge
Microwave discharges: fundamentals and applications, rok: 2003
-
Study of high power pulsed microwave discharge
Microwave discharges: Fundamentals and applications, rok: 2003
-
Study of reaction between HMDSO and O atoms in afterglow
Proceedings of ISPC 14, rok: 2003
2002
-
Advanced methods for deposition of thin films: monitoring, properties, application
Rok: 2002, počet stran: 157 s.
-
Changes in concentration of atoms in afterglow due to presence of admixtures
Proceedings of ESCAMPIG and ICRP, rok: 2002