prof. RNDr. Ivan Ohlídal, DrSc.
vedoucí pracoviště – Optika tenkých vrstev a povrchů pevných látek
kancelář: pav. 06/01031
Kotlářská 267/2
611 37 Brno
telefon: | 549 49 6244 |
---|---|
e‑mail: |
sociální a akademické sítě: |
---|
Počet publikací: 199
2006
-
Optical characterization of carbon films prepared by PECVD using ellipsometry and reflectometry
Czech. J. Phys., rok: 2006, ročník: 56/2006, vydání: Suppl. B
2005
-
AFM Study of Hydrocarbon Thin Films
WDS'05 Proceedings of Contributed Papers: Part II - Physics of Plasmas and Ionized Media (ed. J. Safrankova), rok: 2005
-
Application of the wavelet transformation in AFM data analysis
Acta Physica Slovaca, rok: 2005, ročník: 55, vydání: 3
-
Atomic force microscopy analysis of morphology of the upper boundaries of GaN thin films prepared by MOCVD
Vacuum, rok: 2005, ročník: 80, vydání: 1-3
-
Atomic Force Microscope Tip Influence on the Fractal and Multi-Fractal Analyses of the Properties of Randomly Rough Surafaces
Nanoscale Calibration Standards and Methods: Dimensional and Related Measurements in the Micro-and Nanometer Range, rok: 2005
-
Combination of optical methods and atomic force microscopy at characterization of thin film systems
Acta physica slovaca, rok: 2005, ročník: 55, vydání: 3
-
Comparison of effective medium approximation and Rayleigh-Rice theory concerning ellipsometric characterization of rough surfaces
Optics Communications, rok: 2005, ročník: 248, vydání: 1
-
Digital two-wavelength holographic interference microscopy for surface roughness measurement
Proceedings of SPIE 5945, 14th Slovak-Czech-Polish Optical Conference on Wave and Quantum Aspects of Contemporary Optics, rok: 2005
-
Ellipsometry in characterization of thin films
Proceedings of the SREN 2005, rok: 2005
-
Evidence of refractive index change in glass substrates induced by high-density reactive ion plating deposition of SiO2 films
Applied Surface Science, rok: 2005, ročník: 244, vydání: 1-4